新垚生态

产品介绍

自主研发的核心技术装备,高效结晶软化技术入选国家水利部节水先进成熟适用技术设备名录(2025年)。

高效结晶软化成套设备
水质处理

高效结晶软化成套设备

高效均质软化装置入选国家水利部节水先进成熟适用技术设备名录(2025年)

通过过饱和体系构建、晶核诱导与颗粒化分离,实现钙镁硬度高效削减。物化协同、无化学再生、模块化设计,化学品消耗较药剂软化减少 10-15%,能耗较药剂软化降低 50%、较膜处理降低 95%。工业废水预处理钙离子去除率可达 95% 以上。

  • 外形尺寸:3.3 m × 3.3 m × 8 m(不锈钢主体,不同水质材质有所差异)
  • Ca²⁺ 去除效率:≥98%
  • Mg²⁺ 去除效率:约 20%
  • 药剂成本:0.15 元/t/100mg/L
  • 电费成本:0.02-0.05 元/t
  • 产物含水率:<5%,普通固废处理
  • 占地面积:约 30 m²(传统药剂软化约 200-1000 m²)
  • 操作人员:1 人(传统药剂软化需 2-3 人)
  • 整体投资:约 340-500 万元(较传统药剂软化 500-700 万元降低约 20%)
  • 较药剂软化减少约 20% 设备投资,占地由 1200 m² 降至 225 m²
  • 5-15 天排渣一次,渣含水率低至 5%,可在设备内长时间累积
  • 参数闭环控制,加药误差 ≤±3%,现场操作人员需求减少 80%
  • 模块化撬装并联设计,可按水量灵活扩容,现场快速安装

工艺流程

原水/待处理水 → 精准药剂投加 → 高效结晶反应器 → 晶体生长与颗粒化 → 固液分离/排渣 → 软化出水 → 后续工艺或回用

01

过饱和体系构建

通过调节 pH、碱度及离子环境,使钙、镁离子进入适合结晶的过饱和状态。

02

晶核诱导与晶体生长

借助晶种、流态控制和反应器内均质环境,使离子优先附着在晶核表面并持续长大。

03

颗粒化分离

生成的晶体颗粒密度高、沉降快、含水率低,可通过排渣方式集中排出。

设备优势

  1. 01投资少

  2. 02占地小

  3. 03能耗少

  4. 04运行简便,省人工

  5. 05无二次污染

    • 无污泥产生
    • 无浓水产出
  6. 06料渣有回用价值

    • 建材骨料
    • 化妆品行业增白剂
    • 煤炭行业脱硫剂
    • 其他高附加值用途
  7. 07产水率高

  8. 08运行成本低

  9. 09运行风险低,无需酸回调,杜绝风险

  10. 10运行稳定、使用寿命长

适用场景

  • 饮用水:总硬度超标控制、改善口感、提升供水品质
  • 工业用水:纯水/超纯水制备预处理、循环冷却水防结垢
  • 工业废水:总硬度超标治理、零排放系统软化预处理
  • 煤矿行业:采出水、尾水处置、回用前硬度削减
  • 污水厂中水回用:回用水硬度控制、保护管网与回用设施
  • 钢铁/电力等高耗水企业:生产废水预处理与循环水处理
  • 新型农业:优化土壤环境、高端果蔬灌溉水软化

工艺示意图

高效结晶软化成套设备工艺流程

一体式净化工艺

一体式净化工艺示意图

反应器接口示意

反应器接口示意图
磁混凝沉淀技术
污水处理

磁混凝沉淀技术

在传统混凝沉淀工艺中同步加入磁粉,使絮体密度更大、更结实,沉降速度高达 40 m/h 以上。磁粉通过磁分离机回收循环使用。适用于生活污水处理、工业污水处理、黑臭河道整治、生活饮用水供水处理。

  • 表面负荷:15~40
  • 磁粉消耗量:<0.5%
  • 排泥浓度:10~16 g/L
小分子有机物强化去除装备
超纯水

小分子有机物强化去除装备

采用紫外光合强氧化分解技术,应用于对超纯水 TOC 要求较高(≤0.5-1 ppb)的场景。可特异性强化去除小分子有机物,保障超纯水制备系统稳定运行。适用于半导体行业再生水制处理回用。

  • Oxi-HiDU-C25:15-25 CMH
  • Oxi-HiDU-C60:25-50 CMH
  • Oxi-HiDU-C100:50-100 CMH
深度除氟工艺系统
废水处理

深度除氟工艺系统

引入可高效回收的磁性微粒,实现固液快速分离。帮助解决含氟污泥上浮问题,为客户节省运行成本 10%~20%。适用于电子、新能源含氟废水及放流口尾水的氟化物深度处理。

  • 工作交换量:3.0 gF/L
  • 适用:氟化物 ≤20 mg/L 出水
含氟废水诱导结晶除氟装备
资源化

含氟废水诱导结晶除氟装备

针对半导体、光伏、面板等电子行业含氟废水,开发诱导结晶流化床工艺,可处理 200~5000 mg/L 含氟废水。出水稳定小于 20 mg/L,形成纯度超过 85% 的萤石进行资源化利用。

  • 进水氟浓度:200-800 mg/L
  • 出水:<20 mg/L
电子行业废浓硫酸回收装备
资源化

电子行业废浓硫酸回收装备

针对半导体行业废液资源化工程,开发废硫酸回收资源化工艺,在保障废硫酸过氧化稳定去除前提下实现硫酸回收。

  • 处理量:5~120 t/d
  • 反应温度:70~80℃